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硅片清洗超純水設備

  • 硅片清洗超純水設備采用預處理、反滲透技術、混床、EDI裝置以及后級處理等方法.

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  硅片清洗超純水設備采用預處理、反滲透技術、混床、EDI裝置以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。

  一、硅片清洗超純水設備如下優點

 ?、?、水質穩定。

 ?、?、容易實現全自動控制。

 ?、?、不會因再生而?;?。

 ?、?、不需化學再生。

 ?、?、運行費用低。

 ?、?、占地面積小。

 ?、?、無污水排放。

  二、硅片清洗超純水設備的制備工藝

  1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

  2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)

  3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(新工藝)

  4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)

  5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

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