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半導體超純水設備

  • 半導體超純水設備的設計使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。

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  半導體超純水設備的設計使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室,使水中雜質離子被樹脂吸附,從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到再生,因此保持活性。而釋放的雜質離子將在直流電場的作用下,定向移動,半導體超純水設備通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。

  一、半導體超純水設備進水要求:

  pH值:7.5—9

  溫度:15℃--35℃

  進水壓力(DIN):0.15—0.4MPa

  進水硬度:<1.0ppm(以CaCO 計)(推薦0 5ppm以下)

  進水有機物:TOC<0.5ppm

  進水硅:SiO2<0.5ppm

  進水總CO2:<3ppm

  進水顆粒度:<1μm

  二、半導體超純水設備主要特點:

  1、產水水質高,產水穩定度高。

  2、連續不間斷制水,不因再生而?;?。

  3、??榛?,并可實現全自動控制。

  4、無須酸堿再生,無污水排放。

  5、無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

  6、設備結構緊湊,占地面積小。

  7、運行費用及維修成本低。

  8、運行操作簡單,勞動強度低

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